О лаборатории
Деятельность лаборатории «Плазма-стимулированных аддитивных технологий» связана с разработкой и созданием новых приборов и аппаратных комплексов для целей атомно-слоевого осаждения, АСО (Atomic layer deposition, ALD) и атомно-слоевого травления АСТ (Atomic layer etching, ALE). Для выполнения этих задач проводится комплекс экспериментальных и теоретических исследований спектральных, время-разрешенных, поляризационных и пространственных характеристик случайно-неоднородных рассеивающих и поглощающих сред (неравновесные нестационарные плазменные среды) с использованием методов лазерной оптической и нелинейно-оптической спектроскопии и микроскопии УФ, видимого и ИК диапазонов спектра. Имеется возможность исследовать механизм проводимых в камере поверхностных химических реакций в режиме in situ с помощью квадрупольного масс-спектрометра.
Благодаря импульсной подаче реагентов и последовательному повторению циклов атомно-слоевое осаждение позволяет наносить тонкопленочные структуры (~10 нм и менее) что очень важно на современном этапе развития полупроводниковой техники. В настоящее время кроме реакций с термической активацией, в которых тепловая энергия обеспечивается путем различного рода нагрева, широко используется реакции с плазменной активацией, в которых плазма, которую можно получить различными способами, обеспечивает большую часть энергии, необходимой для активации процесса осаждения. Применение плазмы для активации процессов осаждения приводят к появлению дополнительных эффектов влияющих на свойства пленок, что требует дополнительного исследования с применением соответствующих методик.
На сегодняшний день, в лаборатории «Плазма-стимулированных аддитивных технологий» Инжинирингового центра ДГУ и кафедре «Физическая электроника» сосредоточен богатый кадровый потенциал и уникальное научное оборудование, ориентированное на обеспечение инфраструктурной поддержки научных исследований.